

1. 项目介绍
本项目为自主开发的半导体产业用共形电磁屏蔽薄膜材料,可对PCB板,芯片等部位共形、超薄电磁屏蔽封装,为新一代电磁屏蔽解决方案核心材料。通过材料、设备和工艺的集成创新,实现电磁屏蔽薄膜高柔性、高电磁屏蔽效能、与各类电子基底材料高结合力、及高耐候性,改变目前半导体产业用电磁屏蔽材料现状,为我国半导体产业链完善和核心关键材料制备技术国产化贡献力量。项目技术属国内首创、国际领先。
2. 创新点与技术优势
高分子基电磁屏蔽复合材料受到长期的关注,这一领域的核心问题实现材料电磁屏蔽效能、力学性能和加工性能三者的协同。通常要获得材料的高电磁屏蔽效能,需要大量填充导电/磁性填料,但这必然大幅降低材料的力学性能和加工性能。因此,材料电磁屏蔽效能、力学性能和加工性能成为该领域的魔三角,一直是工业界和学术界的难题,长期以来没有很好的办法解决。项目团队通过多维度导电粒子杂化、做组分复配和工艺的组合创新方法,克服了这一难题。成功制备了柔性、高电磁屏蔽效能、可共覆膜封装的电磁屏蔽薄膜材料,并与华为、荣耀等头部企业合作,用于其产品内部元器件屏蔽覆膜封装。
3. 知识产权与获奖情况
1)一种高透明可循环利用的柔性多功能电子皮肤及其制备方法和应用
2)一种pH/光双重响应的形貌可逆转变的聚合物材料及其制备方法和应用
3)基于离子液体的多功能柔性透明传感材料的制备方法
4. 技术成熟度与应用场景
该项目已产业化,主要应用于通信基站、5G收集、ICT设备和物联网等。
5. 转化方式
专利转让、技术许可、作价投资等。
6. 科研团队
项目负责人:朱雨田,职务职级:教授。
电话:0571-28865012
邮编: 311121
地址:浙江省杭州市余杭塘路2318号
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